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1.金属/石墨界面扩散反应的AES研究

姚文清,朱永法,郑斌,曹立礼

真空科学与技术[0253-9748], Published 2000, Issue 01,

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2.Au/Si_3N_4体系电迁移特性的ADXPS研究

宋伟杰,朱永法,曹立礼

真空科学与技术[0253-9748], Published 1999, Issue 04,

收录情况: CNKI

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3.ADXPS study on electromigration behavior of Au/Si3N4 system

Song, Weijie, Zhu, Y     More...

Zhenkong Kexue yu Jishu Xuebao/Vacuum Science and Technology[0253-9748], Published 1999, Volume 19, Issue 3, Pages 237-241

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4.PZT/Si薄膜的扩散反应研究

朱永法,曹立礼,阎培渝,李龙土,张孝文

真空科学与技术[0253-9748], Published 1996, Issue 01,

收录情况: CNKI

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5.Pt扩散阻挡层对PZT/Si薄膜化学结构和性能的影响

朱永法,曹立礼,阎培渝,李龙土,张孝文

真空科学与技术[0253-9748], Published 1996, Issue 01,

收录情况: CNKI

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6.Cr/SiO_2界面还原反应研究

朱永法,苗冬,曹立礼

真空科学与技术[0253-9748], Published 1996, Issue 02,

收录情况: CNKI

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7.PZT/Si界面氧化反应机理及动力学研究

朱永法,曹立礼,阎培渝,李龙土,张孝文

真空科学与技术[0253-9748], Published 1996, Issue 03,

收录情况: CNKI

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8.Study on the oxidation reaction on the interface of PZT/Si film

Zhu, Yongfa, Cao, Li     More...

Zhenkong Kexue yu Jishu Xuebao/Vacuum Science and Technology[0253-9748], Published 1996, Volume 16, Issue 3, Pages 160-165

收录情况: SCOPUS

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9.氮化硅薄膜材料的表面结构和热稳定性研究

朱永法,曹立礼

真空科学与技术[0253-9748], Published 1995, Issue 01,

收录情况: CNKI

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10.俄歇化学位移影响因素分析

朱永法,曹立礼

真空科学与技术[0253-9748], Published 1995, Issue 04,

收录情况: CNKI

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11.Ti/Si(100)体系界面扩散反应动力学研究

邓宗武,朱永法,曹立礼,陈立

真空科学与技术[0253-9748], Published 1994, Issue 03,

收录情况: CNKI

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12.注Sb/Bi氧化锡薄膜化学结构

朱永法,曹立礼

真空科学与技术[0253-9748], Published 1994, Issue 05,

收录情况: CNKI

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13.Ti/SiO_2界面反应的研究

朱永法,曹立礼

真空科学与技术[0253-9748], Published 1994, Issue 06,

收录情况: CNKI

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